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打磨与抛光的区别目的、工序、效果不同 打磨和抛光的核心区别在于目的、工序和最终效果：打磨是通过消除表面痕迹使材料平整，抛光是提升光泽度的精加工步骤。前者采用粗粒度工具处理粗糙表面，后者使用细粒度材料实现镜面效果，且打磨是抛光的前置工序。
工艺目的与工序差异 打磨： 核心作用：消除材料表面的工具痕迹、平整表面（如玉石雕刻后的棱角修整或金属焊接处的毛刺处理）。 工具与材料：使用砂条、砂纸等粗粒度工具，目数由低到高逐步细化（例如从100#到1000#砂纸）。 抛光： 核心作用：通过摩擦提升光泽度与艺术表现力（如玉石高光效果或金属镜面处理）。 工具与材料：采用鬃刷、皮轮搭配钻石粉研磨膏或化学抛光剂，实现精细表面处理。 上一篇琴式打磨台的效果怎么样下一篇双工位打磨台的原理结构 |
